发明名称 EXPOSURE APPARATUS AND PHOTOMASK USED THEREIN
摘要 본 발명은, 포토마스크(3)는 피노광체의 반송 방향 A에 대략 직교하는 방향으로 복수의 마스크 패턴(13)을 소정 피치로 배열하여 형성한 복수의 마스크 패턴 열(15)과, 복수의 마스크 패턴 열(15)의 각 마스크 패턴(13)에 각각 대응하여 상기 피노광체측에 형성되고, 각 마스크 패턴(13)을 피노광체 위에 축소 투영하는 복수의 마이크로 렌즈(14)를 구비하여 이루어지고, 피노광체의 반송 방향 A의 선두측에 위치하는 마스크 패턴 열(15a)에 의하여 형성되는 복수의 노광 패턴의 사이를 후속되는 마스크 패턴 열(15b 내지 15d)에 의하여 형성되는 복수의 노광 패턴에 의하여 보완하여 노광 가능하도록, 상기 후속되는 마스크 패턴 열(15b 내지 15d) 및 그것에 대응하는 각 마이크로 렌즈(14)를 복수의 마스크 패턴(13)의 상기 배열 방향과 각각 소정 치수만큼 어긋나게 하여 형성한 것이다. 이에 의하여 미세한 노광 패턴을 피노광체의 전면에 걸쳐서 고분해능으로 고밀도로 형성한다.
申请公布号 KR101650116(B1) 申请公布日期 2016.08.30
申请号 KR20127012117 申请日期 2009.11.12
申请人 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 发明人 미주무라 미치노부
分类号 G03F1/00;G03F1/38;G03F7/20 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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