| 发明名称 | TaVCN硬质纳米结构薄膜及制备方法 | ||
| 摘要 | 本文发明公开了一种TaVCN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于是该薄膜采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，薄膜分子式为(Ta,V)CN，厚度在1-3μm，V含量为0-40at.%。沉积时，真空度优于3.0×10<sup>-3</sup>Pa,以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa、氩氮流量比10:（2-5），Ta靶功率为80-150W，C靶功率为40-60W，V靶功率为0-100W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。 | ||
| 申请公布号 | CN103924190B | 申请公布日期 | 2016.06.08 |
| 申请号 | CN201410131115.4 | 申请日期 | 2014.04.02 |
| 申请人 | 江苏科技大学 | 发明人 | 喻利花;许俊华;黄婷 |
| 分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人 | 楼高潮 |
| 主权项 | 一种TaVCN硬质纳米结构薄膜，其特征在于，薄膜采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上制备得到，所述的薄膜分子式表示为(Ta,V)CN，薄膜厚度在1‑3μm。 | ||
| 地址 | 212003 江苏省镇江市京口区梦溪路2号 | ||