| 发明名称 |
Organometallische Iridiumverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung und Verfahren zur Herstellung von dünnen Schichten |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE602004019836(D1) |
申请公布日期 |
2009.04.23 |
| 申请号 |
DE200460019836T |
申请日期 |
2004.04.14 |
| 申请人 |
TOSOH CORP. |
发明人 |
TAKAMORI, MAYUMI;OSHIMA, NORIAKI |
| 分类号 |
C07F15/00;H01L21/02;C07F17/00;C07F17/02;C23C16/18;C23C16/40;H01L21/8242 |
主分类号 |
C07F15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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