发明名称 | 树脂模制品的制造方法 | ||
摘要 | 本发明的树脂模制品通过下列步骤制造,即在进行(a)基板上形成第1抗蚀剂层;(b)用掩模对第1抗蚀剂层进行曝光;(c)形成第2抗蚀剂层;(d)掩模的对位;(e)对第2抗蚀剂层进行曝光并在重复进行多次(c)~(e)的工序,直到形成预期的抗蚀剂厚度之后,经显像工序形成预期的抗蚀剂图案的抗蚀剂图案形成步骤;按照前述抗蚀剂图案,经电镀使金属结构体堆积在前述基板上的金属结构体形成步骤;以前述金属结构体为模具、形成树脂模制品的模制品形成步骤。由此提供一种精密、廉价的树脂模制品及其制造方法。 | ||
申请公布号 | CN1599659A | 申请公布日期 | 2005.03.23 |
申请号 | CN02818967.1 | 申请日期 | 2002.09.26 |
申请人 | 可乐丽股份有限公司 | 发明人 | 河原茂;西泰治;柳川幸弘 |
分类号 | B29C33/38 | 主分类号 | B29C33/38 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张天安;杨松龄 |
主权项 | 1.一种树脂模制品的制造方法,具有在基板上形成抗蚀剂层、用掩模进行曝光、显像的抗蚀剂图案形成步骤;按照在所述基板上形成的所述抗蚀剂图案,经电镀使金属结构体堆积的金属结构体形成步骤;以所述金属结构体为模具、形成树脂模制品的模制品形成步骤,其特征是,所述抗蚀剂图案形成步骤具有:在所述基板上形成第1抗蚀剂层并对该第1抗蚀剂层进行曝光的第1抗蚀剂图案形成步骤,在所述第1抗蚀剂层上形成第2抗蚀剂层并对该第2抗蚀剂层进行曝光或者曝光、显像的第2抗蚀剂图案形成步骤。 | ||
地址 | 日本冈山县 |