| 摘要 |
접착제를 이용하지 않는 포커스 링으로서, 플라즈마 처리 장치 내에서 이용되었을 때에, 이상 방전을 억제하여, 원주 방향에서의 플라즈마 환경의 균일성이 얻어지는 포커스 링을 제공한다. 접착제를 이용하는 일없이, 복수의 원호형 부재(10)를 복수의 연결 부재(20)에 의해 연결하여, 링형으로 구성되는 실리콘제의 포커스 링(1)으로서, 상기 연결 부재(20) 상면으로부터 상기 오목형 감합부(23)의 바닥면(23a)까지의 두께 치수(d2)가, 상기 원호형 부재(10) 상면으로부터 제2 오목부 바닥면(13a)까지의 두께 치수(d1)보다, 큰 치수로 형성되어 있다. |
