| 发明名称 |
METHOD FOR EVALUATING SILICON WAFER HEAT-TREATED IN HYDROGEN AND BOAT AND TUBE FOR HEAT-TREATING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1130611(A) |
申请公布日期 |
1999.02.02 |
| 申请号 |
JP19970202303 |
申请日期 |
1997.07.10 |
| 申请人 |
KOMATSU ELECTRON METALS CO LTD |
发明人 |
HIROSE TAKESHI;MOTOURA HISAMI;WAKABAYASHI HIROZO;YUKIWAKI SATOSHI;MATSUYAMA HIROYUKI |
| 分类号 |
G01N1/28;G01N21/88;G01N21/94;G01N21/956;G01N33/00;H01L21/66;(IPC1-7):G01N33/00 |
主分类号 |
G01N1/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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