SEMICONDUCTOR PROCESSING METHOD COMPRISING THE FABRICATION OF A BARRIER LAYER,申请号KR1020007006569-传众专利搜索

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发明名称	SEMICONDUCTOR PROCESSING METHOD COMPRISING THE FABRICATION OF A BARRIER LAYER
摘要
申请公布号	KR20010033186(A)	申请公布日期	2001.04.25
申请号	KR1020007006569	申请日期	2000.06.16
申请人		发明人
分类号	H01L21/3205	主分类号	H01L21/3205
代理机构		代理人
主权项
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