一种低温沉积磁控溅射镀膜装置

摘要

本实用新型公开一种低温沉积磁控溅射镀膜装置，包括磁控靶和辅助电极，磁控靶设于基材的一侧或两侧，磁控靶的一侧或两侧设置辅助电极。其方法是在基材一侧设置磁控靶，在磁控靶外侧设置辅助电极，磁控靶对基材进行溅射镀膜时，通过辅助电极实施正偏压，利用异性相吸的原理，将溅射过程中产生的电子吸附到辅助电极表面，减少电子对基材表面的轰击，降低基材的温升，从而实现长时间的低温沉积。本实用新型可克服电子轰击对基材表面温升的影响，防止不耐温材料沉积过程中出现起皱折、拉伸、变形等缺陷，从而提高产品质量，由于可长时间进行低温沉积膜层，不仅能提高生产效率，镀膜设备中也可省去冷却机构的设置，降低生产成本，加强市场竞争力。

主权项

一种低温沉积磁控溅射镀膜装置，其特征在于，包括磁控靶和辅助电极，磁控靶设于基材的一侧或两侧，磁控靶的一侧或两侧设置辅助电极。