蒸着で堆積されたフォトレジスト、及びそのための製造及びリソグラフィシステム

摘要

フォトレジスト蒸着システムは、加熱素子と、基板を保持するための冷却されたチャックとを有する真空チャンバであって、加熱された入口を有する真空チャンバと、冷却されたチャックによって冷却された基板上でフォトレジストを液化するために真空チャンバ内に前駆体を揮発させるための加熱された入口に接続された蒸着システムを含む。堆積システムは、半導体ウェハと、半導体ウェハ上の蒸着されたフォトレジストを含む半導体ウェハシステムを作る。半導体ウェハシステムを必要とする極端紫外線リソグラフィシステムは、極端紫外線光源と、極端紫外線光源からの光を導くためのミラーと、極端紫外線光源からの光を結像するためのレチクルステージと、蒸着されたフォトレジストを有する半導体ウェハを配置するためのウェハステージを含む。