发明名称 WAFER RECYCLING METHOD
摘要 A wafer recycling method comprises varying a temperature and pressure conditions to remove a first semiconductor layer deposited on a wafer, removing a remaining semiconductor layer on the wafer through a chemical or physical process, and washing the wafer.
申请公布号 US2008318426(A1) 申请公布日期 2008.12.25
申请号 US20080144261 申请日期 2008.06.23
申请人 KIM KYUNG JUN;SON HYO KUN 发明人 KIM KYUNG JUN;SON HYO KUN
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利