環状プラズマ除害装置および方法

摘要

ガスを除害するための装置が提供される。装置は、複数の入口および１つの出口ならびに少なくとも１つのチャンバ壁を有する環状プラズマ・チャンバを含む。１つまたは複数の磁心が環状プラズマ・チャンバに対して配置される。プラズマ・チャンバは環状プラズマを閉じ込める。第２のガス入口は、第１のガス入口と第２のガス入口の間の環状プラズマ通路体積が不活性ガスで実質的に充填されるよう、環状プラズマ・チャンバ上の第１のガス入口とガス出口の間に、ガス出口から距離ｄを隔てて置かれ、距離ｄは、除害されるガスの所望の滞留時間に基づいている。