| 发明名称 |
CLEANING METHOD AND CLEANING MECHANISM OF ION SOURCE INSULATING FLANGE WITH GAS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11317174(A) |
申请公布日期 |
1999.11.16 |
| 申请号 |
JP19980158302 |
申请日期 |
1998.04.30 |
| 申请人 |
SOZO KAGAKU:KK |
发明人 |
TATSUMI YOSHIAKI;MIYASHITA KINYA;KISHIDA MASANORI |
| 分类号 |
C23C14/00;C23C14/48;H01J27/02;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J27/02 |
主分类号 |
C23C14/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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