ヘテロ原子を有する環状有機基含有シリコン含有レジスト下層膜形成組成物

摘要

【課題】 リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】 シランとして加水分解性オルガノシラン、その加水分解物及びその加水分解縮合物のうちの少なくとも１種を含み、該シランが炭素原子と窒素原子とそれらの原子以外のヘテロ原子とを環構成原子に含む環状有機基を有するシランを含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。上記加水分解性オルガノシランが式（１）：【化１】（式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のうち少なくとも１つの基は炭素原子数１乃至１０のアルキレン基を介して−Ｓｉ（Ｘ）３基が結合した基を表し、残りの基は水素原子、炭素原子数１乃至１０のアルキル基、又は炭素原子数６乃至４０のアリール基を表し、環Ａは環構成原子として炭素原子と少なくとも１つの窒素原子を含み、更に硫黄原子又は酸素原子を含む５乃至１０員環の環状有機基であり、Ｘはアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン原子を表す。）で表される加水分解性オルガノシランである。【選択図】 なし