| 发明名称 | 光掩膜基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种具有最基本结构的基座(11)，具有包括第一和第二透明石英部分(11a)以及夹在它们之间的不透明石英部分(11b)的三层结构。例如，不透明石英部分(11b)由“泡沫石英”制成。另外，考虑在衬底(10)上所形成的薄膜的组分或厚度以及在闪光照射期间关于照射光能量的各种条件等，将不透明石英部分(11b)对闪光的不透明度确定在基于不透明石英部分(11b)材料或厚度的适当范围内。叠置结构可以包括具有不同透明度的多个不透明石英层的叠置。 | ||
| 申请公布号 | CN1955840A | 申请公布日期 | 2007.05.02 |
| 申请号 | CN200610136330.9 | 申请日期 | 2006.10.16 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 福岛慎泰;吉川博树;金子英雄;稻月判臣 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 王茂华 |
| 主权项 | 1.一种光掩膜基板的制造方法，包括：利用闪光对在透明衬底上所形成的光学膜进行照射的步骤，其中在将所述透明衬底安装在由对所述闪光不透明的玻璃材料制成的衬底支撑部件上的情况下执行所述照射，所述衬底支撑部件为具有n(n是等于或大于2的自然数)层透光材料的叠置结构，且n层中的至少一层具有不同于其它层的对所述闪光的不透明度。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||