发明名称 HIGH DENSITY RECORDING MEDIUM WITH SUPER-RESOLUTION NEAR-FIELD STRUCTURE MANUFACTURED USING HIGH-MELTING POINT METAL OXIDE OR SILICON OXIDE MASK LAYER
摘要
申请公布号 EP1543505(A1) 申请公布日期 2005.06.22
申请号 EP20030798584 申请日期 2003.09.24
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.;NATIONAL INSTITUE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE 发明人 KIM, JOO-HO;TOMINAGA, JUNJI
分类号 G11B7/24;G11B5/62;G11B7/0045;G11B7/243;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/258;G11B9/12;(IPC1-7):G11B5/62 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人
主权项
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