| 发明名称 | 被构图基底,制造基底的方法,磁记录介质及磁记录装置 | ||
| 摘要 | 一种用于具有离散磁道的磁记录介质的被构图基底(11)，包括其上加工的凸起(11a)和凹陷(11b)图形，以及在每一个凹陷(11b)处形成的纹理结构。 | ||
| 申请公布号 | CN1905015A | 申请公布日期 | 2007.01.31 |
| 申请号 | CN200610107756.1 | 申请日期 | 2006.07.25 |
| 申请人 | 株式会社东芝;昭和电工株式会社 | 发明人 | 樱井正敏;喜喜津哲;冈正裕 |
| 分类号 | G11B5/82(2006.01);G11B5/84(2006.01) | 主分类号 | G11B5/82(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
| 主权项 | 1.一种用于具有离散磁道的磁记录介质的被构图基底(11)，其特征在于包含：在该基底上加工的凸起(11a)和凹陷(11b)图形，以及在每个所述凹陷(11b)处形成的纹理结构。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||