| 摘要 |
본 발명은 적절한 실리카 농도의 인산 수용액을 공급하여, 질화막과 산화막에서의 충분한 선택비에 의한 웨트 에칭을 행할 수 있는 웨트 에칭 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 인산 수용액을 저류하는 저류부(20)와, 실리카 첨가제를 저류하는 첨가제 저류부(30)와, 저류부(20)에 저류된 인산 수용액의 실리카 농도를 검출하는 농도 검출부(22)와, 농도 검출부(22)에 의해 검출된 인산 수용액의 실리카 농도가 정해진 값보다 낮은 경우에, 첨가제 저류부(30)로부터 저류부(20)에 실리카 첨가제를 공급하는 제어부(100)와, 저류부(20)에 저류된 인산 수용액에 의해 기판(W)을 처리하는 처리부(40)를 구비한다. |
