| 发明名称 | 用于处理基板的方法和装置 | ||
| 摘要 | 公开了用于向基板上供应液体的方法和装置。该方法用于处理基板，且包括：液体供应步骤，其在基板旋转的同时供应用于在基板上形成液体膜的处理液体；以及液体扩散步骤，其在液体供应步骤之后，通过使基板旋转来使被排出到基板上的处理液体扩散。所述液体扩散步骤包括：主扩散步骤，其使基板以第一扩散速度旋转；以及二次扩散步骤，其在主扩散步骤之后，使基板以第二扩散速度旋转。第二扩散速度高于第一扩散速度。因此，能够通过执行二次扩散步骤再次向基板涂覆处理液体，使得可以调整感光膜的厚度。 | ||
| 申请公布号 | CN106019848A | 申请公布日期 | 2016.10.12 |
| 申请号 | CN201610196054.9 | 申请日期 | 2016.03.31 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 安恩锡;闵忠基;李正悦;朴珉贞 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 | 代理人 | 杨黎峰;钟锦舜 |
| 主权项 | 一种用于处理基板的方法，该方法包括：液体供应步骤，其在基板旋转的同时供应用于在基板上形成液体膜的处理液体；以及液体扩散步骤，其在液体供应步骤之后，通过使基板旋转来使被排出到基板上的所述处理液体扩散，其中，所述液体扩散步骤包括：主扩散步骤，其使基板以第一扩散速度旋转；以及二次扩散步骤，其在主扩散步骤之后，使基板以第二扩散速度旋转，并且其中，所述第二扩散速度高于所述第一扩散速度。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道 | ||