一种金属介质膜光栅的消色差相位延迟器

摘要

本发明属于光学器件技术领域，涉及一种金属介质膜光栅的消色差相位延迟器，其主体结构包括自上而下的SiO₂覆盖膜层和银质光栅结构，所述光栅结构上有通过蚀刻方法获得的光栅槽，该发明涉及的主要参数如下，覆盖膜层的折射率为1.46，覆盖膜层的厚度为154.2nm，光栅槽槽深为139.7nm，光栅结构的占空比为0.14，光栅结构的周期为68nm，入射角为20°‑40°，该发明在900‑1200nm波段其相位延迟量在90°的范围内最大偏差小于2.3％，该发明采用金属介质膜光栅结构，其透射率高、宽光谱、偏振性能好，适合工艺上的生产制备，性能上满足光学领域对位相延迟器的要求，其主体结构简单，安装使用方便，具有良好的市场应用前景，应用环境友好。

主权项

一种金属介质膜光栅的消色差相位延迟器，其特征在于其主体结构包括：覆盖膜层、光栅结构、光栅槽和基座，SiO₂材质的覆盖膜层为平面薄膜结构，覆盖膜层的厚度为154.2nm，覆盖膜层固定置于光栅结构的具有光栅槽的侧面上，覆盖膜层的折射率n＝1.46；光栅结构的材质为金属银，光栅结构具有剩余厚度，能够提高光的反射率，还能够降低光栅的制备难度，光栅结构的上表面处通过蚀刻工艺制得并列式分布的光栅槽，光栅槽的深度为139.7nm；光栅结构的占空比为0.14，光栅结构的周期为68nm；SiO₂材质的基座固定置于光栅结构的下表面处，支撑稳定光栅结构；该发明涉及的入射光的波长为900nm‑1200nm，入射角度为20°‑40°。