发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Bewertung von Defekten am Randbereich eines Wafers und Verwendung der Vorrichtung in einer Inspektionseinrichtung für Wafer
摘要 Es ist eine Vorrichtung zur Bewertung von Defekten am Randbereich eines Wafers (6) offenbart. Die Bewertung kann auch automatisch durchgeführt werden. Im Besonderen umfasst die Vorrichtung drei Kameras (25, 26, 27), die jeweils mit einem Objektiv (30) versehen sind, wobei eine erste Kamera (25) derart angeordnet ist, dass die erste Kamera (25) einem Randbereich auf der Oberseite (6a) des Wafers (6) gegenüberliegt, wobei eine zweite Kamera (26) derart angeordnet ist, dass die zweite Kamera (26) einer Stirnseite (6b) des Wafers (6) gegenüberliegt und wobei eine dritte Kamera (27) derart angeordnet ist, dass die dritte Kamera (27) einem Randbereich auf der Unterseite (6c) des Wafers (6) gegenüberliegt.
申请公布号 DE102007024525(A1) 申请公布日期 2008.09.25
申请号 DE200710024525 申请日期 2007.05.24
申请人 VISTEC SEMICONDUCTOR SYSTEMS GMBH 发明人 BIRKNER, ANDREAS;HOFMANN, MICHAEL;VOLLRATH, WOLFGANG
分类号 G01N21/95 主分类号 G01N21/95
代理机构 代理人
主权项
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