除气和冷却两用的装卸锁定组合装置

摘要

一种处理晶片的组合装置(10)，包括一个金属体(12)，金属体中有一个位于至少两个装卸锁定室(18)之间的高真空室(20)，装卸锁定室与高真空室(20)保持流体连通，至少两个对应槽阀(22)分别隔绝每一个装卸锁定室(18)与高真空室(20)。每一个装卸锁定室(18)还包括一个用于冷却放在其中的晶片的制冷压板(82)和一个在其中照射晶片、对晶片脱气的加热灯组件(120)。一台高真空泵(78)与高真空室(20)连接，一台水泵(64)也与高真空室(20)连通。有选择地按定序操作槽阀(22)、压板(82)、加热灯组件(120)、高真空泵(78)和水泵(64)可使每一个装卸锁定室(18)既可用作冷却室又可用作脱气室。

主权项

1.一种可在其中进行真空沉积过程的装置，包括：一个有一顶面和一底面的金属体；至少两个从所述顶面到所述底面穿过所述金属体的装卸锁定室；在所述金属体中的与每个装卸锁定室连通的高真空室；以及至少两个装在所述金属体中的隔离阀，每一所述隔离阀使所述高真空室与一个相应的装卸锁定室互连，以便有选择地使每一装卸锁定室与所述高真空室隔绝，和，深冷板，所述深冷板有至少两个相对的深冷板表面，每一深冷板表面在所述高真空室中约在一个相应的隔离阀的正前方，从而所述深冷板表面与对应装卸锁定室之间为视线关系，用于当与所述装卸锁定室对应的所述隔离阀打开时抽出残留水分子。