发明名称 | 一种半导体集成电路及其制造方法 | ||
摘要 | 一种半导体集成电路具有使用第一电源电压的第一电路区域和使用不向于第一电源电压的第二电源电压的第二电路区域。第一电路区域是根据按照第一电源电压的第一设计原则所制造的,及第二电路区域是根据按照第二电源电压的第二设计原则所制造的。 | ||
申请公布号 | CN1207774C | 申请公布日期 | 2005.06.22 |
申请号 | CN02105972.1 | 申请日期 | 2002.04.12 |
申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 水正竜大 |
分类号 | H01L21/82;H01L27/00 | 主分类号 | H01L21/82 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 付建军 |
主权项 | 1.一种用于制造半导体集成电路的方法,该集成电路具有使用第一电源电压的第一电路区域和使用不同于所述第一电源电压的第二电源电压的第二电路区域,其中:一个第一设计原则根据所述第一电源电压而被应用于所述第一电路区域;一个第二设计原则根据所述第二电源电压而被应用于所述第二电路区域;所述第一电路区域的布线间隔被确定为耐受所述第一设计原则的第一击穿电压的最小距离;及所述第二电路区域的布线间隔被确定为耐受所述第二设计原则的第二击穿电压的最小距离。 | ||
地址 | 日本神奈川 |