| 发明名称 | 垂直磁记录介质及其制造方法和磁记录/再现装置 | ||
| 摘要 | 本文公开的是一种磁记录介质，其包括一衬底(11)，一底层(13，14)，以及一垂直磁记录层(15)，其中这个垂直磁记录层包括磁性晶粒和环绕该磁性晶粒的基质，并且该基质包含从Zn，Cd，Al，Ga和In中选出的一种元素，以及从P，As，Sb，S，Se和Te中选出的一种元素。 | ||
| 申请公布号 | CN1538392A | 申请公布日期 | 2004.10.20 |
| 申请号 | CN200410045124.8 | 申请日期 | 2004.03.17 |
| 申请人 | 株式会社东芝;昭和电工株式会社 | 发明人 | 前田知幸;彦坂和志;中村太;岩崎刚之;酒井浩志;清水谦治;坂腋彰 |
| 分类号 | G11B5/708 | 主分类号 | G11B5/708 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蔡胜有 |
| 主权项 | 1.一种垂直磁记录介质，包括：一衬底；一形成在该衬底上的底层；和一形成在所述底层上的垂直磁记录层，具有垂直于该衬底取向的易磁化轴，并且具有磁性晶粒和环绕该磁性晶粒的基质，其特征在于该基质包含从由Zn，Cd，Al，Ga和In构成的组中选出的至少一种元素，以及从由P，As，Sb，S，Se和Te构成的组中选出的至少一种元素。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||