发明名称 |
用于雷射生成式电浆超紫外线(EUV)光源之源材料收集单元 |
摘要 |
揭露一种超紫外光(EUV)光源,其能够包含一产生一雷射光束之雷射源以及一源材料,例如锡、四溴化锡、溴化锡、四氢化锡、锡-镓合金、锡-铟合金、锡-铟-镓合金或其组合,该源材料系藉由雷射光束加以照射,以形成一电浆,并发出EUV光线。该EUV光源亦能够包含一光束收集器,其布置成接受雷射光束、以及一个将光束收集器之温度控制在一预先选定范围内的系统。在一实施例中,该源材料能够在一照射区域进行照射,且该光源能够进一步包含一接收构造,其形成具有一表面,该表面之形状系用以接受从照射区域射出的源材料,并且导引该经过接受之源材料供后续收集之用。接收构造与光束收集器能够形成为一个单一整体单元。 |
申请公布号 |
TWI391033 |
申请公布日期 |
2013.03.21 |
申请号 |
TW096129406 |
申请日期 |
2007.08.09 |
申请人 |
希玛股份有限公司 美国 |
发明人 |
拜卡诺夫 亚历山大N. BYKANOV, ALEXANDER N. US;汉森 毕琼恩 |
分类号 |
H05G2/00 |
主分类号 |
H05G2/00 |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |