基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法

摘要

本发明公开了一种基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法。在浸没式光刻系统中投影透镜组和待曝光硅片衬底之间的浸没单元内部进行的密封方法，通过在回收流道和气密封通道之间周向布置一圈压力传感器来实现流场泄漏状况的实时监测和气密封装置注气量的自适应控制。本发明通过对回收流道与气密封通道中间区域的压力进行检测，实现对浸没流场泄漏状况的实时监测；并且将此信号反馈给气密封装置，气密封装置依据此信号实时的改变其进气量，进行动态的自适应密封，保证了最佳的密封效果的同时，降低了过高的气密封压力导致的前进接触角处的液体卷吸气泡的问题及硅片所受应力过大等问题，同时减少了气体的损耗，较大程度的优化气密封装置的性能。

主权项

一种基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法，其特征在于：在浸没式光刻系统中投影透镜组(1)和待曝光硅片衬底(3)之间的浸没单元(2)内部进行的密封方法，通过在回收流道(2B)和气密封通道(2C)之间周向布置一圈压力传感器(4)来实现流场泄漏状况的实时监测和气密封装置注气量的自适应控制；所述压力传感器(4)实时得到回收流道(2B)与气密封通道(2C)间局部区域的压力值，根据液滴对气流的绕流作用会导致液滴周围局部区域的压力发生变化这点，推断当压力发生突变即增大时，说明此局部区域的浸没流场发生了泄漏，并且泄漏程度与压力突变数值成正比，由此，能实现对浸没流场泄漏状况的实时监测。