发明名称 Non-volatile memory device having vertical structure
摘要 본 발명은, 수직 구조의 비휘발성 메모리 소자를 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 수직 구조의 비휘발성 메모리 소자 는, 반도체층; 반도체층에 대하여 제1 방향으로 연장되고, 서로 교대하여 배치된 제1 영역들과 제2 영역들을 가지는 측벽을 포함하는 반도체 기둥; 반도체 기둥의 측벽의 제1 영역들 상에 위치하고, 제1 방향과는 다른 제2 방향으로 연장되고, 양자점과 양자점과 연결된 폴리머층을 가지는 전하 저장층을 각각 포함하는 복수의 스토리지 매체들; 및 반도체 기둥의 측벽의 제2 영역들 상에 위치하고, 제2 방향으로 연장된 복수의 층간 절연층들;을 포함한다.
申请公布号 KR101650841(B1) 申请公布日期 2016.08.25
申请号 KR20100039167 申请日期 2010.04.27
申请人 삼성전자주식회사 发明人 이재구;최정달;박영우
分类号 H01L21/8247;H01L27/115 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
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