发明名称 INSULATED-GATE BIPOLAR TRANSISTOR, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING INSULATED-GATE BIPOLAR TRANSISTOR, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 <p>La présente invention concerne un transistor bipolaire à grille isolée, un dispositif à semi-conducteurs utilisant ce transistor, et un procédé de fabrication correspondant. L'invention vise à s'affranchir du montage de diode en roue libre pour la dérivation du courant de retour. En l'occurrence, on augmente la concentration en impuretés de la couche tampon N+ (12) coopérant avec la couche collecteur P+ (11) pour former une jonction de façon à abaisser la tension de claquage d'une diode parasite (D) formée des couches base N (12, 13) et de la couche collecteur P+ (11). On arrive ainsi à faire baisser la tension de claquage inverse d'un IGBT (101) en dessous d'un plafond correspondant à 5 fois la tension de saturation (V¿CE(sat)?) entre le collecteur et l'émetteur.</p>
申请公布号 WO2002063695(P1) 申请公布日期 2002.08.15
申请号 JP2001000777 申请日期 2001.02.02
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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