发明名称 OPTICAL SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
摘要 본 발명은 마이크로리소그래피 투영 노광 장치용 광학 시스템에 관한 것이다. 마이크로리소그래피 투영 노광 장치용 광학 시스템은 광학 축(OA), 복수의 미러 소자(200a, 200b, 200c,..., 300a, 300b, 300c,...)를 갖는 적어도 하나의 미러 배치(200 및 300) - 상기 미러 소자는, 미러 배치에 의해 반사된 광의 각도 분포를 변경하기 위해 서로 독립적으로 조정될 수 있음 - , 및 미러 배치(200 및 300)의 하류의 광학 빔 경로에 대해, 광학 축(OA)의 편향이 발생하는 적어도 하나의 편향면(212)을 갖는 편향 디바이스(210 및 310)를 가지며, 상기 적어도 하나의 편향면(212)은 굴절력을 갖는다.
申请公布号 KR101645797(B1) 申请公布日期 2016.08.04
申请号 KR20140093954 申请日期 2014.07.24
申请人 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 发明人 파트라, 미카엘;아이젠멘거, 요하네스;쉬바브, 마르쿠스
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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