| 发明名称 |
METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY HYDROCHLORIC ACID. |
| 摘要 |
THE PRESENT INVENTION RELATES TO A NOVEL INDUSTRIAL PROCESS FOR PRODUCING HIGH PURITY, LOW PARTICLE HYDROCHLORIC ACID FOR USE IN SEMICONDUCTOR PRODUCTION.(FIG 1)
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| 申请公布号 |
MY128168(A) |
申请公布日期 |
2007.01.31 |
| 申请号 |
MYPI20004651 |
申请日期 |
2000.10.05 |
| 申请人 |
BASF AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
WERNER BUTTNER;DR. MARTIN HOSTALEK;CHING-JUNG KAN;CHIH-PENG LU |
| 分类号 |
C01B7/01;C01B7/07;H01L21/00 |
主分类号 |
C01B7/01 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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