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Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Elektronenstrahlprozessanordnung (100, 400, 500, 600a, 600b) Folgendes aufweisen: eine Vakuumkammer (102), in welcher mehrere Auftreffbereiche (108a, 108b) angeordnet sind; mindestens eine Elektronenstrahlquelle, welche eingerichtet ist einen Elektronenstrahl mit mehr als 10 kW bereitzustellen; eine Ablenkanordnung (106) zum Ablenken des mindestens einen Elektronenstrahls in die mehreren Auftreffbereiche (108a, 108b); mindestens einen Elektronendetektor (110), welcher in einem Auftreffbereich (108b) der mehreren Auftreffbereiche (108a, 108b) angeordnet ist und eingerichtet ist in Antwort auf ein Bestrahlen des Elektronendetektors (110) mittels des Elektronenstrahls ein elektrisches Signal zu erzeugen, wobei das elektrische Signal mindestens einen Leistungswert des Elektronenstrahls repräsentiert; und eine Messeinheit (116), welche mit dem Elektronendetektor (110) gekoppelt ist zum Erfassen des elektrischen Signals. |
