曝光方法、曝光设备及制造装置之方法

摘要

一种曝光方法包含有：藉由第一观测器侦测第一标记位置的第一侦测步骤；藉由具有高于第一观测器倍率之倍率的第二观测器侦测第二标记位置之第二侦测步骤；根据于第一与第二侦测步骤中获得之侦测结果，计算第一校正值的第一计算步骤；在根据于第一计算步骤中所计算之第一校正值校准该基板后，藉由第二观测器侦测第三标记位置的第三侦测步骤；根据于第二与第三侦测步骤中获得之侦测结果，计算第二校正值的第二计算步骤；以及在根据于第二计算步骤中所计算之第二校正值校准该基板后，曝光该基板之曝光步骤。