| 发明名称 | 光掩模的缺陷检查方法以及光掩模 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光掩模的缺陷的检查方法，所述光掩模具有：具备重复了相同图案的重复图案的像素图案区域(9)、和设在该像素图案区域的周边、没有重复图案的周边图案区域(10A、10B、10C、10D)，在所述光掩模中，在不存在像素图案区域或者周边图案区域的空白空间(21)上，设置排列有分别与周边图案区域(10A、10B、10C、10D)的图案相同的图案的检查用图案区域(20A、20B、20C、20D)，通过比较这些周边图案区域和检查用图案区域，检查该周边图案区域中的图案的缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN101025563A | 申请公布日期 | 2007.08.29 |
| 申请号 | CN200710005862.3 | 申请日期 | 2007.02.25 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 佐野道明 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1.一种光掩模的缺陷检查方法，是检查具有具备重复了相同图案的重复图案的像素图案区域、和设在该像素图案区域的周边、没有重复图案的周边图案区域的光掩模中的所述图案的缺陷的方法，其特征在于，在所述光掩模中，在不存在所述像素图案区域以及所述周边图案区域的空白空间上，设置排列有与所述周边图案区域的图案相同的图案的检查用图案区域，通过比较这些周边图案区域和检查用图案区域，检查该周边图案区域中的图案的缺陷。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||