Gerät und Verfahren zur Analyse einer Polierschicht eines chemisch- mechanischen Polierkissens
摘要
Es wird ein Gerät zur Analyse der Polierschicht eines chemisch-mechanischen Polierkissens bereitgestellt, wobei das Analysegerät so ausgebildet ist, dass es Makroinhomogenitäten in polymeren Lagen erfasst und die polymeren Lagen entweder als akzeptabel oder fehlerverdächtig klassifiziert.
申请公布号
DE102015016892(A1)
申请公布日期
2016.06.30
申请号
DE20151016892
申请日期
2015.12.28
申请人
Dow Global Technologies LLC;Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.
发明人
Acholla, Francis V.;Wank, Andrew R.;Gazze, Mark;Chang, Scott;Tsai, Jeff;Heeschen, William A.;Tate, James David;Chiang, Leo H.;Chin, Swee-Teng
