发明名称 |
一种晶格匹配的五结太阳能电池及其制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种晶格匹配的五结太阳能电池及其制作方法,以p型Ge单晶片为衬底,在所述衬底上面按照层状叠加结构由下至上依次设置有GaInP成核层、GaInAs缓冲层、AlGaAs/GaInAs DBR反射层、GaInNAs子电池、GaInAs子电池、AlGaInAs子电池和AlGaInP子电池;AlGaAs/GaInAs DBR反射层和GaInNAs子电池之间通过第一隧道结连接,GaInNAs子电池和GaInAs子电池之间通过第二隧道结连接,GaInAs子电池和AlGaInAs子电池通过第三隧道结连接,AlGaInAs子电池和AlGaInP子电池通过第四隧道结连接。本发明可以提高GaInNAs子电池收集效率,增加五结电池的整体短路电流,而且可以减少GaInNAs子电池厚度,节约生产成本,最终发挥五结电池的优势,提高电池整体光电转换效率。 |
申请公布号 |
CN105810760A |
申请公布日期 |
2016.07.27 |
申请号 |
CN201610318854.3 |
申请日期 |
2016.05.12 |
申请人 |
中山德华芯片技术有限公司 |
发明人 |
张小宾;马涤非;王雷;吴波;刘雪珍;黄珊珊;张杨;杨柏 |
分类号 |
H01L31/0232(2014.01)I;H01L31/0725(2012.01)I;H01L31/0735(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0232(2014.01)I |
代理机构 |
广州市华学知识产权代理有限公司 44245 |
代理人 |
梁莹 |
主权项 |
一种晶格匹配的五结太阳能电池,包括有Ge衬底,其特征在于:所述Ge衬底为p型Ge单晶片;在所述Ge衬底上面按照层状叠加结构由下至上依次设置有GaInP成核层、GaInAs缓冲层、AlGaAs/GaInAs DBR反射层、GaInNAs子电池、GaInAs子电池、AlGaInAs子电池和AlGaInP子电池;所述AlGaAs/GaInAs DBR反射层和GaInNAs子电池之间通过第一隧道结连接,所述GaInNAs子电池和GaInAs子电池之间通过第二隧道结连接,所述GaInAs子电池和AlGaInAs子电池通过第三隧道结连接,所述AlGaInAs子电池和AlGaInP子电池通过第四隧道结连接。 |
地址 |
528437 广东省中山市火炬开发区火炬路22号之二第3-4层 |