一种真空镀膜设备

摘要

本发明涉及镀膜设备领域，具体涉及一种真空镀膜设备。所述真空镀膜设备，包括真空室及分设于真空室两端的进片装置及出片装置，还包括设置于所述真空室上方或下方的垫板返回装置，所述的进片装置包括进片运输架及推动所述进片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的进片升降机构；所述的出片装置包括出片运输架及推动所述出片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的出片升降机构。通过将垫板返回装置设置于真空室的上方或下方，简化了真空镀膜设备的整体结构，节约了生产成本，同时也减小了真空镀膜设备占用空间，有利于提高厂房的利用率。

主权项

一种真空镀膜设备，包括真空室及分设于真空室两端的进片装置及出片装置，其特征在于：还包括设置于所述真空室上方或下方的垫板返回装置，所述的进片装置包括进片运输架及推动所述进片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的进片升降机构；所述的出片装置包括出片运输架及推动所述出片运输架在真空室与垫板返回装置之间来回升降的出片升降机构。