发明名称 |
氟甲烷的制备方法和产品 |
摘要 |
本发明涉及使氯甲烷和氟化氢在气相中在氟化催化剂存在下反应,将所得的含有氯甲烷和氯化氢的混合物加入蒸馏塔中,用于作为塔顶馏分分离和提纯氯甲烷和氯化氢。所以,可以有效地制备高纯度的HFC-41,其适合作为半导体蚀刻气体。 |
申请公布号 |
CN100562510C |
申请公布日期 |
2009.11.25 |
申请号 |
CN200580031247.9 |
申请日期 |
2005.09.01 |
申请人 |
昭和电工株式会社 |
发明人 |
大野博基;新井龙晴 |
分类号 |
C07C17/20(2006.01)I;C07C19/08(2006.01)I |
主分类号 |
C07C17/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
林柏楠;刘金辉 |
主权项 |
1.一种制备氟甲烷的方法,包括以下四个步骤:(1)使氯甲烷与沸石在液相中接触,(2)使在步骤(1)中获得的氯甲烷与氟化氢在气相中在氟化催化剂的存在下反应,主要获得氟甲烷,(3)将在步骤(2)中获得的含氟甲烷的混合气体加入蒸馏塔中,并将主要包含氟甲烷和氯化氢的塔顶馏分与主要包含氯甲烷和氟化氢的塔底馏分分离,和(4)从在步骤(3)中获得的塔顶馏分中分离并提纯氟甲烷,其中在步骤(1)中使用的沸石是分子筛3A和/或分子筛4A,在步骤(2)中使用的氟化催化剂是负载型催化剂或本体催化剂,其主要由三价氧化铬组成和含有至少一种选自In、Zn、Ni、Co、Mg和Al的元素。 |
地址 |
日本东京都 |