| 摘要 |
본 발명은 에지를 연마한 후에 기판을 폴리싱하는 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판의 상부연마면(S1)과 측면(S3)과 하부연마면(S2)을 동시에 폴리싱할 수 있고, 또한 폴리싱 휠을 고르게 사용하여 전체적으로 균일하게 마모되는 기판 폴리싱장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 폴리싱장치는 상부에지와 하부에지가 연마된 기판을 폴리싱하는 장치로서, 기판을 안착하는 테이블; 상기 테이블의 측면 상부에 설치되는 스핀들; 원기둥형태로 형성되고, 회전축이 상기 기판과 직교하도록 설치되며, 상기 스핀들에 의해 회전하면서 측면으로 상기 기판을 폴리싱하는 폴리싱 휠; 및 상기 기판을 폴리싱하는 동안 상기 폴리싱 휠을 상하방향으로 일정속도로 이동시키는 Z축이동수단;을 포함한다. |
