发明名称 研磨パッド
摘要 研磨加工時の立ち上がり時間を短縮し平坦性向上を図ることができる研磨パッドを提供する。研磨パッド10は、湿式成膜法により形成されたポリウレタンシート2を備えている。ポリウレタンシート2は、カーボンブラックおよびイオン性界面活性剤が無添加の状態で形成されたものである。ポリウレタンシート2では、スキン層が除去された表面により研磨面Pが構成されている。研磨面Pでは、開孔5、開孔6が形成されている。ポリウレタンシート2では、研磨面Pに水滴を滴下して0.5秒後の接触角をCA1とし、水滴の滴下から10.5秒後の接触角をCA2としたときに、{(CA1−CA2)/CA1}×100で表される接触角変化率が、20〜50%の範囲に調整されている。研磨加工時に供給されるスラリがポリウレタンシート2に浸透しやすくなる。
申请公布号 JPWO2014051104(A1) 申请公布日期 2016.08.25
申请号 JP20140538651 申请日期 2013.09.27
申请人 富士紡ホールディングス株式会社 发明人 宮坂 博仁;立野 哲平;金澤 香枝;松岡 立馬
分类号 B24B37/24;B24B37/26;H01L21/304 主分类号 B24B37/24
代理机构 代理人
主权项
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