| 发明名称 | 涉及基于频率分析监视的化学机械抛光处理 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种监视化学机械抛光处理的方法，包含以下步骤：自化学机械抛光处理接收实时数据信号，其中所述实时数据信号与摩擦力、力矩、马达电流有关；将该数据信号转换成一不同频率的信号的功率频谱，其中各频率总和等于该原始数据信号；识别并监视该功率频谱的对应于所述化学机械抛光处理的信号成分；检测该信号成分的振幅或频率的变化；及改变所述化学机械抛光处理以响应所检测的变化。本发明也提供一种完成上述方法的装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1314096C | 申请公布日期 | 2007.05.02 |
| 申请号 | CN02815555.6 | 申请日期 | 2002.08.19 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 菲利普·W·卡特;杰弗里·P·张伯伦 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01);B24B49/16(2006.01);G05B19/416(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 马高平;杨梧 |
| 主权项 | 1.一种监视化学机械抛光处理的方法，包括：(a)接收来自化学机械抛光处理的一实时数据信号，其中所述实时数据信号与摩擦力、力矩、马达电流有关；(b)将所述实时数据信号提交给一演算，该演算将所述实时数据信号分解成不同频率的信号的功率频谱，所述功率频谱的总合仍等于所述实时数据信号；(c)识别该功率频谱的至少一对应于所述化学机械抛光处理的一个方面的信号成分；(d)监视所述功率频谱的所述至少一信号成分的振幅或频率在化学机械抛光处理期间的变化；(e)检测所述至少一信号成分的振幅和/或频率的变化；以及(f)响应所检测的变化改变化学机械抛光处理。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||