| 发明名称 | 单个晶片的干燥装置和干燥方法 | ||
| 摘要 | 本发明一方案提供一种用于处理晶片的组件，此组件包含具有一个或更多个特征的处理部分，这些特征可以包含例如(1)可转动晶片支持器，用于转动输入晶片由第一定向转动到第二定向，在第一定向上的晶片对齐于负载端口，到了第二定向上的晶片系对齐于卸载端口；(2)捕获器，用于接触并在晶片由处理部分卸载时，与晶片一起被动地移动；(3)一被围体围绕的输出部分，用于产生一个流动的空气气流，由一侧流到另一侧；(4)一输出部分，具有多个晶片接收器；(5)没入的液体喷嘴；以及/或者(6)干燥蒸气流变流装置等。本发明的其它方案包含晶片的处理方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101086955A | 申请公布日期 | 2007.12.12 |
| 申请号 | CN200710103401.X | 申请日期 | 2002.11.01 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 尤尼斯·阿克基雷;亚历山大·勒纳;鲍里斯·T·高符兹曼;鲍里斯·菲什金;迈克尔·休格曼;拉希特·马符雷夫;方浩铨;李世剑;盖伊·夏伊拉齐 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);F26B3/06(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 陆嘉 |
| 主权项 | 1.一种干燥基材的方法，其包括：以一第一速度提升一晶片通过一空气/流体界面；以及正当该晶片的一部分保留在该空气/流体界面上时，减小晶片的剩余部分被提升通过该空气/流体界面的速度。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||