发明名称 一种GaN‑MoS<sub>2</sub>分波段探测器及其制备方法
摘要 本发明适用于半导体器件领域,提供了GaN‑MoS<sub>2</sub>分波段探测器,包括:GaN衬底;附在所述衬底一面上的GaN材料层;附在所述衬底的与所述GaN材料层相对的另一面上的MoS<sub>2</sub>材料层;置于所述GaN材料层和所述MoS<sub>2</sub>材料层上的电极组。本发明提供的GaN‑MoS<sub>2</sub>分波段探测器为单片集成结构,包括分别置于衬底两面的GaN材料层和MoS<sub>2</sub>材料层,所述探测器结构合理地将宽禁带GaN和窄禁带的二维材料MoS<sub>2</sub>结合在一起,最终实现了光子的分波段吸收探测。本发明还提供了所述GaN‑MoS<sub>2</sub>分波段探测器的制备方法,包括以下步骤:制备GaN材料层;制备MoS<sub>2</sub>材料层;加工电极组。本发明所提供的制备方法,过程简单易行,便于工业化生产。
申请公布号 CN106129166A 申请公布日期 2016.11.16
申请号 CN201610489139.6 申请日期 2016.06.28
申请人 深圳大学 发明人 刘新科;李奎龙;何佳铸;陈乐;何祝兵;俞文杰;吕有明;韩舜;曹培江;柳文军;曾玉祥;贾芳;亮;洪家伟
分类号 H01L31/09(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/032(2006.01)I 主分类号 H01L31/09(2006.01)I
代理机构 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人 王利彬
主权项 一种GaN‑MoS<sub>2</sub>分波段探测器,其特征在于,包括:GaN衬底;附在所述衬底一面上的GaN材料层;附在所述衬底的与所述GaN材料层相对的另一面上的MoS<sub>2</sub>材料层;置于所述GaN材料层和所述MoS<sub>2</sub>材料层上的电极组。
地址 518000 广东省深圳市南山区南海大道3688号