一种玻璃基片镀膜后面形可控的热处理方法

摘要

本发明涉及一种玻璃基片镀膜后面形可控的热处理方法，该方法属于光学镀膜领域，主要针对玻璃基片在光学加工过程中产生的表面应力导致面形稳定周期长,在后续镀膜加热过程中容易发生不确定形变，引起镀膜元件面形参数不可控的问题而发明的。具体方法是：在镀膜前将加工完成的大口径基片进行一次热处理，热处理之后首先在环境参数稳定的测量室内进行一段时间的放置，之后进行面形测量。根据面形变化情况对基片进行镀膜或者重新抛光。通过以上处理过程缩短了表面加工应力释放周期，提高了基片在后续镀膜过程中的面形变化稳定性与可控性，镀膜质量与效率优化显著。

主权项

一种玻璃基片镀膜后面形可控的热处理方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：步骤1：将经光学加工后的大口径玻璃基片用去离子水清洗干净；步骤2：镀膜面向下装入夹具；步骤3：将夹具推入烘箱，关闭烘箱门；步骤4：按照以下升降温过程对玻璃基片进行热处理:首先以10℃‑30℃为台阶升温至170℃‑240℃，每个台阶保温0.5‑2小时；之后以10℃‑30℃为台阶降温至室温，每个台阶保温0.5‑2小时；步骤5：取出玻璃基片后，将玻璃基片放入环境稳定的测量室内放置2‑8天后进行面形测量；步骤6：对于面形达标的玻璃基片进行镀膜，对面形不达标的玻璃基片，重新抛光后返回步骤1。