发明名称 一种高饱和磁通密度MnZn铁氧体的烧结方法
摘要 本发明提供了一种高饱和磁通密度MnZn铁氧体的烧结方法;该方法由以下步骤构成:a.第一个升温阶段:b.第二个升温阶段,c.保温阶段,d.降温阶段构成;本发明的烧结方法由于在升温、保温和降温的整个烧结过程中通过对温度和氧分压的控制,能够大大提高MnZn铁氧体的饱和磁通密度;应用本发明的烧结方法制备高饱和磁通密度MnZn铁氧体无需添加昂贵的辅助成分,而且烧结工艺简单,大大降低了MnZn铁氧体的成本。
申请公布号 CN100466114C 申请公布日期 2009.03.04
申请号 CN200610051942.8 申请日期 2006.06.14
申请人 横店集团东磁有限公司 发明人 颜冲;吕东华;包大新;何时金
分类号 H01F1/10(2006.01);H01F1/34(2006.01) 主分类号 H01F1/10(2006.01)
代理机构 杭州杭诚专利事务所有限公司 代理人 尉伟敏
主权项 1、一种高饱和磁通密度MnZn铁氧体的烧结方法,该方法由以下步骤构成:a、第一个升温阶段:该阶段在1小时到6小时的时间内将温度从室温升高到600℃~800℃,升温阶段在大气气氛中进行;b、第二个升温阶段,该阶段在3小时到8小时的时间内将温度从600℃~800℃升高到1100~1450℃,升温阶段的氧分压维持在0.001~2%;c、保温阶段,该阶段将温度维持在1100~1450℃,保温时间为30分钟到10小时,氧分压维持在2~10%;d、降温阶段,该阶段在6小时到20小时的时间内将温度从1100~1450℃降到100℃,降温过程维持平衡氧分压。
地址 322118浙江省东阳县横店工业区东磁有限公司