一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置及其应用

摘要

本发明创造涉及一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置及其应用。采用本装置，激光源将光束直接照射到基体表面待生长薄膜和/或涂层的区域上，将待生长薄膜和/或涂层的区域的表面加热到设定温度；控制装置控制气体喷出装置的气体出口与待生长薄膜和/或涂层的区域的表面相对应；将气体反应物从气体储藏罐输出，经气体管线到达气体喷出装置，并从气体出口喷射到基体表面，气体反应物在加热的基体表面发生化学反应，生成的固体产物沉积于基体表面形成薄膜和/或涂层。本发明创造可以实现在基体的局部区域生长薄膜和涂层，大大节约了原料，保护了环境。

主权项

一种适用于局部生长薄膜和涂层的装置，其特征在于：设有提供真空空间的真空容器(1)；设有安装在真空容器(1)内，用于放置基体(4)的支架(2)；设有安装在真空容器(1)内，用于向基体(4)表面局部生长薄膜或涂层的区域提供热源的激光源(3)；设有安装在真空容器(1)内，用于向基体(4)表面局部生长薄膜或涂层的区域喷吹气体反应物的气体喷出装置；设有一个或者若干个用于传输气体反应物的气体管线(5)，气体管线(5)一端与气体喷出装置连接，另一端伸出真空容器(1)与用于储藏气体反应物的气体储藏罐(6)连接；在气体管线(5)和气体储藏罐(6)之间设有流量阀(7)；设有与真空容器(1)相连，内含碱性化合物用于中和反应后产生的酸性副产物或内含分子筛用于吸附有毒气体的过滤装置(8)；过滤装置(8)与真空泵(9)连接；设有机械手I(10)，机械手I(10)与激光源(3)和气体喷出装置连接，或者机械手I(10)与支架(2)连接；设有控制装置(11)，控制装置(11)控制流量阀(7)；控制装置(11)通过机械手I(10)控制激光源(3)和气体喷出装置相对于基体(4)移动，或者控制装置(11)通过机械手I(10)控制支架(2)来控制基体(4)相对于激光源(3)和气体喷出装置移动。