| 发明名称 | 掩膜上的对位标尺及应用对位标尺的屏蔽件位置确认方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种掩膜上的对位标尺及应用对位标尺的屏蔽件位置确认方法，其中，掩膜上的对位标尺，其具有一基准线且包含一测量部与一刻号部。测量部位于基准线的第一侧，且由多个第一测量单元与多个第二测量单元所构成；其中，各第一测量单元与各第二测量单元相邻设置，且第一测量单元的长度大于第二测量单元的长度。刻号部则位于基准线的第二侧，且由一第一刻号单元与多个第二刻号单元所构成；其中，第一刻号单元设置于第二刻号单元之间，且第一刻号单元的长度大于第二刻号单元的长度。本发明亦揭露一种应用对位标尺的屏蔽件位置确认方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101354530A | 申请公布日期 | 2009.01.28 |
| 申请号 | CN200810213569.0 | 申请日期 | 2008.09.11 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 林丰志;蒋富升;邱鼎玮;黄顺宏 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 任默闻 |
| 主权项 | 1、一种掩膜上的对位标尺，其特征在于，具有一基准线，所述对位标尺包含：一测量部，位于所述基准线的第一侧，所述测量部由多个第一测量单元与多个第二测量单元构成，各第一测量单元与各第二测量单元相邻设置且所述第一测量单元的长度大于所述第二测量单元的长度；以及一刻号部，位于所述基准线的第二侧，所述刻号部由一第一刻号单元与多个第二刻号单元构成，所述第一刻号单元设置于所述多个第二刻号单元之间，且所述第一刻号单元的长度大于所述多个第二刻号单元的长度。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹市 | ||