发明名称 |
受容層形成用組成物、それを用いて得られる受容基材、印刷物、導電性パターン及び電気回路 |
摘要 |
本発明は、ブロックイソシアネート(A)を、受容層形成用組成物の固形分に対して50質量%〜100質量%含有することを特徴とする受容層形成用組成物、それを用いて得られる受容基材、印刷物及び導電性パターンを提供する。本発明の受容層形成用組成物は、インク等の流動体を担持することが可能で、各種支持体と導電層との優れた密着性を付与することのできる受容層が形成可能である。特に、前記ブロックイソシアネート(A)の数平均分子量が1,000〜5,000のものを用いると各種支持体と導電層との間の密着性がより優れたものとなる。 |
申请公布号 |
JP5622067(B1) |
申请公布日期 |
2014.11.12 |
申请号 |
JP20140530042 |
申请日期 |
2014.01.16 |
申请人 |
DIC株式会社 |
发明人 |
冨士川 亘;白髪 潤;村川 昭;斉藤 公恵 |
分类号 |
B41M5/00;B32B27/00;B41M5/50;B41M5/52;H05K3/10 |
主分类号 |
B41M5/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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