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Verfahren zur Steuerung der Leistung bei reaktiven Sputterprozessen, wobei eine Spannung zwischen einem Target und einer Gegenelektrode angelegt wird, das Target durch eine Impedanz zwischen Target und Gegenelektrode eine Istleistung aufnimmt und die Durchflussmenge eines dem Sputterprozess zugeführten Reaktivgases mittels eines Reglers in einem Regelprozess mit einer Regelzeit geregelt wird, wobei der Regelprozess einen Einschaltmodus, einen Betriebsmodus und einen Ausschaltmodus aufweist, wobei der Regler (2) mit der von dem Target aufgenommenen Istleistung Pist als Regelgröße beaufschlagt und ein Leistungssollwert Psoll als Führungsgröße an dem Regler (2) eingestellt wird und der Reaktivgasfluss F durch den Regler (2) so eingestellt wird, dass die Regelabweichung (Psoll – Pist) aus Leistungssollwert Psoll und Istwert der Leistung Pist minimal wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Energieversorgung (1) mit im Zeitbereich der Regelzeit konstanter Spannung UT erfolgt und dass im Betriebsmodus bei einer Veränderung der Sollleistung Psoll des Targets die Istleistung Pist des Targets dem mit einer sich zeitlich verändernden Begrenzung versehenen Wert der Sollleistung Psoll zeitlich verzögert nachgeführt wird. |
