发明名称 |
形成电介质膜的方法以及使用该电介质膜的等离子显示板 |
摘要 |
在形成电介质膜的方法以及利用该电介质膜的等离子显示板(PDP)中,将糊剂涂覆在基底上形成电介质膜,电介质膜末端部分的侧表面具有相对于基底表面在30至80度范围的接触角。该PDP优选包括:第一基底和第二基底,它们互相面对并形成放电空间;布置在第一基底上的多对维持电极;以及布置在第二基底上的多个寻址电极。将至少一个电介质膜优选布置在第一基底和第二基底之间,并且该电介质膜末端部分的侧面优选具有相对于第一基底在30至80度范围内的接触角。 |
申请公布号 |
CN1630003A |
申请公布日期 |
2005.06.22 |
申请号 |
CN200410095973.4 |
申请日期 |
2004.10.29 |
申请人 |
三星SDI株式会社 |
发明人 |
权泰正 |
分类号 |
H01J9/02;H01J17/04;H01J17/49;H01J11/02 |
主分类号 |
H01J9/02 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
廖凌玲;杨松龄 |
主权项 |
1.一种形成电介质膜的方法,该方法包括:在基底上涂覆糊剂,并烧结该糊剂以形成电介质膜;其中把由该糊剂形成的电介质膜末端部分的侧面形成为具有相对于基底表面在30至80度范围内的接触角。 |
地址 |
韩国京畿道 |