| 发明名称 | 微光学安全及影像表示系统 | ||
| 摘要 | 一种膜材料，使用正规二维阵列的非圆柱透镜以放大称为图标的微影像、以经由多个个别的透镜/图标影像系统的联合作用而形成合成放大影像。合成放大微光学系统包含一个或更多光学间隔器(5)、微影像、及影像图标聚焦元件(1)的周期平面阵列，微影像由复数个影像图标(4)的周期平面阵列所形成，该周期平面阵列具有关于其至少一平面轴的对称轴以及设于光学间隔器(5)上或相邻于光学间隔器(5)。 | ||
| 申请公布号 | CN1906547A | 申请公布日期 | 2007.01.31 |
| 申请号 | CN200480040733.2 | 申请日期 | 2004.11.22 |
| 申请人 | 纳米发明公司 | 发明人 | R·A·斯蒂恩布利克;M·J·胡尔特;G·R·乔丹 |
| 分类号 | G03H1/00(2006.01);G02B13/18(2006.01);G02B5/12(2006.01);G02B3/10(2006.01);G02B27/08(2006.01);G01B15/02(2006.01);G01N23/06(2006.01) | 主分类号 | G03H1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 程天正;王勇 |
| 主权项 | 1.一种合成放大微光学系统。包括：(a)一个或更多光学间隔器；(b)微影像，包括具有复数个影像图标的周期平面阵列，该阵列具有关于其至少一平面轴的对称轴，且设于该光学间隔器上或接邻于该光学间隔器；及(c)影像图标聚焦元件的周期平面阵列，该阵列具有关于其至少一平面轴的对称轴，该对称轴与该微影像平面阵列的对称轴是相同的平面轴，每一该聚焦元件具有小于50微米的有效直径以及与影像图标相关连并在该相关连的影像图标的宽度上提供放大的视场，以致于该相关连的影像图标的周界边缘不会掉至视野之外。 | ||
| 地址 | 美国乔治亚州 | ||