发明名称 有机发光二极管面板的制作方法
摘要 本发明针对有机发光二极管面板的制作方法中的掩模(shadow mask)清洁问题,在制作方法中插入等离子体干式清洁步骤。由于等离子体本身就具有清洁的功能,所以提出分别于蒸镀前和个别颜色的有机膜蒸镀后,利用等离子体对掩模进行等离子体清洁。其优点是可在短时间内完成掩模的清洁,确保制作过程可靠度及产品优良率。以等离子体现场清洗掩模不但可以大幅降低微颗粒的吸附现象,以及其所造成的重复缺陷,并可以降低暗点发生的机率,同时也可以减少掩模的孔洞被阻塞的现象。
申请公布号 CN100403556C 申请公布日期 2008.07.16
申请号 CN03121600.5 申请日期 2003.04.01
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 萧调宏
分类号 H01L33/00(2006.01);G09F9/30(2006.01);H05B33/10(2006.01);H01L27/15(2006.01);H01L31/12(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1.一种有机发光二极管面板的制作方法,包括有:提供一透明基底,该基底上具有一透明电极层;透过一掩模上的开孔以步进方式热蒸镀一第一有机电发光材料膜于该透明电极层上的第一位置;以及利用一等离子体清洗该掩模;及透过该经等离子体清洗过的掩模上的开孔以步进方式热蒸镀一第二有机电发光材料膜于该透明电极层上的第二位置。
地址 台湾省新竹市